特許

J-GLOBAL ID：200903049296704355

有害ガスの浄化方法

発明者： 岩田 恵一 ,  畠山 俊哉
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287535
公開番号（公開出願番号）：特開平6-238128
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程などから排出されるガス中に含まれる三弗化窒素、二弗化二窒素などの窒素弗化物を有害な副生物を発生することなく効率よく除去する。【構成】 三弗化窒素など窒素弗化物を含有するガスを浄化筒に通し、ジルコニウムまたはジルコニウム系合金からなる浄化剤と加熱下に接触させる。

請求項（抜粋）：

有害成分となる窒素弗化物を含有するガスを、ジルコニウムからなる浄化剤と加熱下に接触させて、該有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (17件)：

B01D 53/34 134 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 128 ,  B01J 20/02 ZAB ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 21/10 ZAB ,  B01J 23/02 ZAB ,  B01J 23/06 ZAB ,  B01J 23/14 ZAB ,  B01J 23/20 ZAB ,  B01J 23/24 ZAB ,  B01J 23/30 ZAB ,  B01J 23/34 ZAB ,  B01J 23/74 ZAB ,  B01J 23/84 ZAB ,  B01J 23/84 311 ,  B01J 23/89 ZAB

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-201984
  
• 特開平2-172814
  
• 特開昭61-287424