特許

J-GLOBAL ID：200903049307336140

光学的測定装置

発明者： 新野 康生 ,  遠山 退三 ,  道徳 一博
出願人/特許権者： 豊田工機株式会社
代理人 (1件)： 門間 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-242833
公開番号（公開出願番号）：特開平7-098212
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【目的】 被測定物の持つ高周波成分によるエリアシング誤差を減衰し、形状測定精度を向上させる。【構成】 空間周波数の高い被測定物11の表面形状を測定する場合は、半導体レーザ101,102のビーム径をそれぞれのビーム径可変装置103,105により小さくし、かつ表面形状に対するサンプリング間隔を、送り装置50の送りピッチをビーム径より小さくすることで小さく設定する。また、空間周波数の低い被測定物11の表面形状を測定する場合は、半導体レーザ101,102のビーム径をビーム径可変装置103,105により拡大し、かつ表面形状に対するサンプリング間隔を送り装置50の送りピッチを大きくすることで大きく設定する。

請求項（抜粋）：

光ビームを発生する光源と、前記光源から発生する光ビームを被測定物に向けて照射させる光学系と、前記光学系から出射する光ビームにより被測定物の表面をサンプリングするために前記光学系と前記被測定物を平行な方向に相対移動させる駆動手段と、前記サンプリング動作毎に前記被測定物により反射される光ビームの結像位置を検出する位置検出手段と、前記光学系から前記被測定物に照射される光ビームの径を被測定物の持つ空間周波数が高いときに縮小し、空間周波数が低いときに拡大するビーム径可変手段と、前記被測定物に対するサンプリング間隔を被測定物の持つ空間周波数が高いときに小さくし、空間周波数が低いときに大きくなるように前記光源又は駆動手段を制御する制御手段とを備えてなる光学的測定装置。