特許
J-GLOBAL ID:200903049312230245

レーザ加工方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西岡 伸泰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-336236
公開番号(公開出願番号):特開平8-174242
出願日: 1994年12月22日
公開日(公表日): 1996年07月09日
要約:
【要約】【目的】 加工速度が高く、然も高い生産能率を実現出来るレーザ加工装置を提供する。【構成】 レーザ加工装置は、レーザ発振器1と、被加工物7が載置されるべき加工テーブル3と、レーザ発振器1からのレーザ光を被加工物7に向けて反射すべき微小ミラーアレイ2とを具えている。微小ミラーアレイ2は、駆動電圧の供給によって反射面の向きが変化する多数の微小ミラー片をマトリクス状に配列して構成されている。微小ミラーアレイ2には制御装置4が接続されて、各ミラー片は、夫々の反射方向を被加工物7へ至る第1の方向と被加工物から外れる第2の方向の間で切り換えられ、第1の反射方向を向いた複数のミラー片によって、1つの転写ドットパターンが構成される。
請求項(抜粋):
被加工物にレーザ光を照射して加工を施すレーザ加工方法において、被加工物に対向させて微小ミラーアレイ(2)を設置し、該微小ミラーアレイ(2)は、駆動電圧の供給によって反射面の向きが変化する多数の微小ミラー片(25)をマトリクス状に配列して構成され、レーザ源からのレーザ光を微小ミラーアレイ(2)にて被加工物(7)へ向けて反射させる際、各ミラー片(25)は、夫々の反射方向を被加工物へ至る第1の方向と被加工物から外れる第2の方向の間で切り換え、第1の反射方向を向いた複数のミラー片(25)によって、各ミラー片(25)を1ドットに対応させた1つの転写ドットパターンを構成するレーザ加工方法。
IPC (5件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/44 ,  B41J 2/465 ,  H01S 3/101
FI (2件):
B41J 3/00 Q ,  B41J 3/21 P
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭61-243476
  • 特開昭61-131965
  • 特開昭63-192583
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