特許
J-GLOBAL ID：200903049313427328
セラミツク皮膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
碓氷 裕彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309293
公開番号（公開出願番号）：特開平5-148039
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：
【要約】【目的】 支持体にセラミック皮膜を形成する場合、この支持体とセラミック皮膜とを同時に焼成可能とするとともに、所望の気孔率を有するセラミック皮膜の製造方法を提供するものである。【構成】 沈殿法等のような原料を溶液に溶解させるような液相から得る1次粒子Aとこの1次粒子Aが凝縮してなる2次粒子Bとからなる原料を焼成してセラミック被膜を得る時、焼成収縮率は、原料製造時の仮焼温度により制御することにより、この1次粒子Aの直径を調節することによって、達成することができる。また、得られる気孔率は、液相から沈殿させる際の溶液温度、攪拌条件等によって、1次粒子Aの集合体である2次粒子Bの直径を調整することができ、この2次粒子Bの直径を調整することにより、1次粒子径Aとは独立に制御可能である。
請求項（抜粋）：
1次粒子と該1次粒子が凝集接合によって構成される2次粒子からなるセラミック原料において、該セラミック原料の焼成収縮率を前記1次粒子の粒径によって調整するとともに、前記セラミック原料の焼成後の気孔率を前記2次粒子の粒径によって調整することを特徴とするセラミック皮膜の製造方法。
IPC (3件)：
C04B 35/64
, B22F 7/00
, G01N 27/409
