特許
J-GLOBAL ID：200903049314915202
石英系光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-181414
公開番号（公開出願番号）：特開平6-027341
出願日： 1992年07月09日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 石英系光導波路の製造方法に関し、伝送損失が小さく、また、光導波路デバイスの特性が良好な石英系光導波路の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 アンダクラッド層2の上層に形成したコア層3をコアパターン5とする反応性イオンエッチング工程と、コアパターン5の側面及び上部にオーバクラッド用ガラススート層4Aを設ける工程との間に、アンダクラッド層2の表面を、所望量除去する化学エッチング工程を挿入する構成とする。
請求項（抜粋）：
アンダクラッド層(2) の上層に形成したコア層(3) をコアパターン(5) とする反応性イオンエッチング工程と、該コアパターン(5) の側面及び上部にオーバクラッド用ガラススート層(4A)を設ける工程との間に、該アンダクラッド層(2) の表面を、所望量除去する化学エッチング工程を挿入したことを特徴とする石英系光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
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