特許
J-GLOBAL ID：200903049317307300

セラミックス粉体の膜状形成体、その形成方法、及びセラミックス膜

発明者：
秋山 善一

秋山 善一 について

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鶴見 敬章

鶴見 敬章 について

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和田 智志

和田 智志 について

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小澤 修一

小澤 修一 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について

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財団法人 理工学振興会

財団法人 理工学振興会 について


代理人 (1件)： 高野 明近 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023060
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220244
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：
【要約】【課題】 従来のセラミックス膜形成法では実現不可能であった2μm以上の膜を、環境に多大な負荷をかけることなく容易に形成し、かつ、低温で形成可能にする。【解決手段】 容器2の底部側に水等の極性溶媒4を配置させ、その上に無極性溶媒にセラミックス仮焼粉を懸濁させた溶液1を滴下すると、界面6上部の無極性溶媒層で仮焼粉沈降が生じる。また、無極性溶媒に低沸点溶媒を用いることにより、室温状態にて、溶媒の蒸発が進行する。無極性溶媒層は極性溶媒4からの反発力により、その2次元的な表面積が最低になるように斥力を受け、懸濁液から沈降して来る仮焼粉も、結果として充填化するように力を受ける。この膜7を、あらかじめ容器底部に配置してある基板3に移す(転写させる)ことにより、基板3上にセラミックス粉体膜状成形物8を積層することができる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成される厚さ2μm以上200μm以下のセラミックス膜において、焼成前のセラミックス粉末からなる膜状形成体の粉体充填割合が63%以上であることを特徴とする、基板上に積層されるセラミックス粉体の膜状形成体。
IPC (3件)：
C04B 35/622 ,  C04B 35/495 ,  H01L 41/24
FI (3件)：
C04B 35/00 G ,  C04B 35/00 J ,  H01L 41/22 A
Fターム (10件)：
4G030AA13 ,  4G030AA16 ,  4G030AA17 ,  4G030AA40 ,  4G030BA10 ,  4G030CA08 ,  4G030GA10 ,  4G030GA11 ,  4G030GA14 ,  4G030GA27
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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