特許

J-GLOBAL ID：200903049325796302

硫化水素除去剤の注入制御方法及びその装置

発明者： 矢出 乃大 ,  神田 裕司
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 松田 大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296552
公開番号（公開出願番号）：特開2003-094070
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】【課題】 被処理物から発生する硫化水素の除去と防止を確実に行うことができる硫化水素除去剤注入制御方法と装置を提供する。【解決手段】 下水又は汚泥から発生する硫化水素の防止又は除去のための硫化水素除去剤の注入制御装置において、前記下水又は汚泥が存在する空間の気相部からガスを吸引する装置と、該吸引したガスの臭気を測定するにおいセンサーと、該においセンサーの測定値により硫化水素除去剤の添加率を設定する制御装置と、制御された硫化水素除去剤を添加する薬品注入装置とから構成される硫化水素除去剤の注入制御装置としたものであり、該装置において、前記下水又は汚泥の電気伝導度を測定する電気伝導度計を有し、前記においセンサーの測定値と電気伝導度の測定値とに基づいて添加率を設定する制御装置を有することができる。

請求項（抜粋）：

下水又は汚泥から発生する硫化水素の防止又は除去を目的に添加する硫化水素除去剤の注入制御方法において、前記下水又は汚泥の気相部の臭気をにおいセンサーで測定することにより、硫化水素除去剤の添加率を設定するとを特徴とする硫化水素除去剤の注入制御方法。

IPC (7件)：

C02F 1/58 ,  C02F 1/00 ZAB ,  C02F 11/00 ,  G01N 27/06 ,  G01N 27/12 ,  G01N 27/18 ,  G01N 33/00

FI (7件)：

C02F 1/58 Q ,  C02F 1/00 ZAB V ,  C02F 11/00 F ,  G01N 27/06 Z ,  G01N 27/12 A ,  G01N 27/18 ,  G01N 33/00 C

Fターム (28件)：

2G046AA04 ,  2G046BG04 ,  2G046EB01 ,  2G046FA01 ,  2G046FB02 ,  2G060AA01 ,  2G060AB01 ,  2G060AE19 ,  2G060AF07 ,  2G060AF08 ,  2G060BA05 ,  2G060BB07 ,  2G060BB08 ,  2G060BC03 ,  2G060KA01 ,  4D038AA08 ,  4D038AB35 ,  4D038BA06 ,  4D059AA03 ,  4D059BC10 ,  4D059BK01 ,  4D059DA00 ,  4D059DA43 ,  4D059DA44 ,  4D059DA45 ,  4D059DA46 ,  4D059DA47 ,  4D059EA20