特許
J-GLOBAL ID：200903049326467604
オフセット印刷用ブランケットおよびそれを用いた電極パターンの印刷方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-344639
公開番号（公開出願番号）：特開2005-111665
出願日： 2003年10月02日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】プラズマディスレイ(PDP)用電極などの導電性パターンを印刷性よく、安定に連続印刷するためのオフセット印刷用ブランケットとそれを用いる印刷方法を提供する。 【解決手段】支持体層上に表面ゴム層を積層してなるオフセット印刷用ブランケットであって、前記表面ゴム層がインキ離型性のよいゴム材料(シリコーンゴムなど)よりなる厚み5〜600μm上層と、耐溶剤性のよいゴム材料(フロロシリコンゴムなど、低分子量シリコンオイルを添加しておく)よりなる厚み100〜800μmの下層の2層を具備するオフセット印刷用ブランケット。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
支持体層上に表面ゴム層を積層してなるオフセット印刷用ブランケットであって、前記表面ゴム層がインキ離型性のよいゴム材料よりなる厚み5〜600μmの上層と、耐溶剤性のよいゴム材料よりなる厚み100〜800μmの下層の2層を具備することを特徴とするオフセット印刷用ブランケット。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2H114CA02
, 2H114CA04
, 2H114DA47
, 2H114DA49
, 2H114DA52
, 2H114DA53
, 2H114DA60
, 2H114DA62
, 2H114DA64
, 2H114EA04
, 2H114FA02
, 2H114FA06
出願人引用 (3件)
審査官引用 (12件)
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