特許

J-GLOBAL ID：200903049335904693

基板処理装置

発明者： 柴山 宣之 ,  岡本 伊雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-291397
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100604
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】基板に対する超音波振動部からの音圧分布の均一性を向上させて、基板の洗浄効果を向上させる。【解決手段】ウエハWに所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯溜し、ウエハWを処理液に浸漬させるための処理槽1と、処理槽1の一面側1Aに一列に配置された複数の超音波振動子30を有する第1超音波振動部3と、処理槽1の一面側1Aと対向する対向面側1Bに一列に配置された複数の超音波振動子40を有する第2超音波振動部4とを備え、第1超音波振動部3の複数の超音波振動子30と、第2超音波振動部4の複数の超音波振動子40とは、互いに平行に、かつ互いに位置をずらせて配置されている。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯溜し、基板を処理液に浸漬させるための処理槽と、前記処理槽の一面側に一列に配置された複数の超音波振動子を有する第1超音波振動部と、前記処理槽の一面側と対向する対向面側に一列に配置された複数の超音波振動子を有する第2超音波振動部とを備え、前記第1超音波振動部の複数の超音波振動子と、前記第2超音波振動部の複数の超音波振動子とは、互いに平行に、かつ互いに位置をずらせて配置されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  C23F 1/08 104 ,  H01L 21/304 642

FI (3件)：

C23F 1/08 104 ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/306 J

Fターム (12件)：

4K057WA01 ,  4K057WA10 ,  4K057WA11 ,  4K057WB06 ,  4K057WD03 ,  4K057WG10 ,  4K057WM03 ,  4K057WM15 ,  4K057WN01 ,  5F043AA01 ,  5F043DD19 ,  5F043EE05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 物体を洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-504682   出願人：シーエフエムティーインコーポレイテッド