光洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：米澤明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-120756
公開番号（公開出願番号）：特開平5-311474
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】基材に付着した有機物を除去するとともに、濡れ性を高める。本発明は、電子材料の洗浄方法に関し、とくにリードフレームの銀めっき後の洗浄、シャドウマスク、フォトマスクブランクス、シリコンウエハ、液晶表示装置用の基板ガラス、透明電極を形成したガラス等の洗浄方法に関する。【構成】リードフレーム、シャドウマスク、フォトマスクブランクス、シリコンウエハ、液晶表示装置用の基板ガラス、透明電極を形成したガラスなどに付着した有機物を、基材を水中に設けるかもしくは被処理面上に水の膜を形成した状態で紫外線を照射して、基材に付着した有機物の分解と濡れ性の改善を行う。【効果】基材の酸化等を起こすことなく、有機物の除去と濡れ性を改善することができる。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を紫外線を利用して洗浄する光洗浄方法において、被洗浄物を水中に設けるか、もしくは被洗浄物表面が水で被覆された状態で紫外線を照射することを特徴とする光洗浄方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

紫外線洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-098687 出願人：株式会社オーク製作所

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