特許
J-GLOBAL ID:200903049344939831
アニーリングに関する改良
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川口 義雄 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-604446
公開番号(公開出願番号):特表2002-539607
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2002年11月19日
要約:
【要約】集積強誘電性デバイス(10)のアニーリングのための方法および装置が開示されており、そのデバイス(10)は、強誘電性状態で存在することができる第1の材料層と、マイクロブリッジ熱検出器などの第1の層の下で集積回路を規定する第2の材料層とを有する。この方法は、エネルギーのパルスを発生させる段階と、パルス延長手段(200)を用いてパルスを時間的に延長する段階と、第1の層を延長パルスで照射する段階とを有する。延長パルスの時間および波長およびフルエンスを選択して、集積回路の温度収支を超えることなく、第1の層の材料をアニーリングして強誘電性状態とする。加熱すべき層および温度感受性層を有する他の製造品の加熱に、この方法を適用することも開示されている。パルスの時間幅を延長することで、経時的に温度感受性層に損傷を与えることなく、第1の層をより均一に加熱するような速度でエネルギーが供給される。
請求項(抜粋):
強誘電状態で存在することができる第1の材料層、および集積回路を規定する第2の材料層を有する、集積強誘電性デバイス(10)の製造方法であって、 第1の時間幅を有するエネルギーパルスを発生させる段階(100)と、 前記パルスを時間延長手段(200)を通過させることで、該パルスの時間幅を延長して、時間幅の長くなった処理パルスを発生させる段階と、 第1の材料層を前記処理パルスで照射して、前記第2の材料層の集積回路の温度収支を超えることなく、第1の材料層における材料の一部または全体を、非強誘電性状態から強誘電性を示すことができる相に変換する、あるいは第1の材料層の材料の品質を改良する段階と を有する集積強誘電性デバイスの製造方法。
IPC (9件):
H01L 21/268
, B23K 26/00
, G01J 1/02
, G01J 5/02
, H01L 27/105
, H01L 27/14
, H01L 37/00
, H01L 41/22
, B23K101:40
FI (9件):
H01L 21/268 E
, B23K 26/00 E
, G01J 1/02 Y
, G01J 5/02 P
, H01L 37/00
, B23K101:40
, H01L 27/10 444 C
, H01L 27/14 K
, H01L 41/22 Z
Fターム (24件):
2G065AB02
, 2G065BA13
, 2G065BA14
, 2G065BA34
, 2G065BC33
, 2G065DA18
, 2G065DA20
, 2G066BA04
, 2G066BA55
, 4E068AH00
, 4E068CA01
, 4E068CA03
, 4E068CD02
, 4E068DA11
, 4M118AA01
, 4M118AB01
, 4M118CB05
, 4M118CB12
, 5F083AD11
, 5F083FR01
, 5F083JA13
, 5F083JA14
, 5F083JA15
, 5F083PR33
引用特許:
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