特許

J-GLOBAL ID：200903049352070828

干渉測定方法、装置及びその方法またはその装置により測定された物

発明者： 西岡 公彦
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 篠原 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191082
公開番号（公開出願番号）：特開2002-005619
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】非破壊、非接触で高精度にレンズの肉厚や面間隔、すなわち面位置を測定できる面間隔測定方法及び装置を提供する。【解決手段】コヒーレンス長が短い光源1を用いた干渉計において、干渉計の光路中に被検物530を配置すると共に2つの光路l,mを設け、ミラー3,ビームスプリッター542との位置関係によって光路長を変化させるミラー駆動装置7を配置し、それぞれの光路を通る2つの光を干渉させて光電検出器8に入射して、被検物の面位置、偏心、面形状または物理特性を求めることができるようにしている。

請求項（抜粋）：

コヒーレンス長が短い光源を用いた干渉計と、前記干渉計の光路中に被検物を配置して干渉を生じさせて、被検物の面位置、偏心、面形状または物理特性を求めるようにしたことを特徴とする測定方法、装置及びその方法またはその装置により測定された物。

IPC (4件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/00

FI (4件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G01M 11/00 L ,  G01B 11/24 D

Fターム (40件)：

2F064AA01 ,  2F064AA09 ,  2F064BB04 ,  2F064CC04 ,  2F064EE09 ,  2F064FF03 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064HH00 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ06 ,  2F064KK01 ,  2F065AA04 ,  2F065AA20 ,  2F065AA22 ,  2F065AA30 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065CC22 ,  2F065FF51 ,  2F065GG01 ,  2F065JJ00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065LL51 ,  2F065LL62 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2F065SS13 ,  2G086FF01 ,  2G086FF02 ,  2G086FF04