特許
J-GLOBAL ID:200903049356374473

焼結窒化ケイ素セラミックの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 湯浅 恭三 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-008496
公開番号(公開出願番号):特開平5-279125
出願日: 1993年01月21日
公開日(公表日): 1993年10月26日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、結晶質粒界相を含んだ窒化ケイ素セラミックの製造法を提供する。【構成】 窒化ケイ素、シリケートガラス形成用焼結助剤、および高金属含量の遷移金属ケイ化物、を含んだ組成物を、ガラスが形成され、酸素が前記ガラスからSiOガスとして除去され、そして前記ガラスが結晶化するまで、減圧下にて1300〜1800°Cの温度に加熱することによって、結晶質粒界相を有する窒化ケイ素セラミックが製造される。これとは別に、窒化ケイ素、シリケートガラス、および高金属含量の遷移金属ケイ化物、を含んだ焼結組成物の粒界を、該組成物を減圧下にて少なくとも1300°Cに加熱することによって結晶化させることができる。
請求項(抜粋):
組成物の総重量を基準として(1) 20〜98%の窒化ケイ素;(2) 0.5〜20%のシリケートガラス形成用焼結助剤;および(3) 0.001〜80%の高金属含量の遷移金属ケイ化物;を含んだ組成物を、シリケートガラスが形成され、酸素が前記シリケートガラスからSiOガスとして除去され、そして前記ガラスが結晶化するまで、減圧下にて1300〜1800°Cの温度に加熱することを特徴とする、焼結窒化ケイ素セラミックの製造法。
IPC (2件):
C04B 35/58 102 ,  C04B 35/58

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