特許
J-GLOBAL ID：200903049370474740
酸化ビスマス(III )の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295092
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119023
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：
【要約】【課題】 平均粒径が15μmと大きく、菱形の形状を有する酸化ビスマス(III )を焼成工程を経ることなく製造することを目的とする。【解決手段】 三価のビスマスイオンを含む硝酸酸性水溶液に、アルカリを添加しpH2〜4に調整してビスムチル塩を生成沈殿せしめ、ビスムチル塩の沈殿を含む溶液の温度を70〜100°Cに上げて、アルカリを添加しpHを12〜14に調整した後、沈殿物を洗浄、濾過、乾燥する。
請求項（抜粋）：
三価のビスマスイオンを含む硝酸酸性水溶液に、アルカリを添加しpH2〜4に調整してビスムチル塩を生成沈殿せしめ、ビスムチル塩の沈殿を含む溶液の温度を70〜100°Cに上げて、アルカリを添加しpHを12〜14に調整した後、沈殿物を洗浄、濾過、乾燥することからなる、酸化ビスマス(III )の製造方法。
Fターム (6件)：
4G048AA02
, 4G048AB02
, 4G048AB08
, 4G048AC04
, 4G048AD04
, 4G048AE07
