特許

J-GLOBAL ID：200903049378790799

高分子材料の表面処理方法

発明者： 二宮 利幸 ,  伊藤 徹男 ,  安田 健二
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-117831
公開番号（公開出願番号）：特開平6-306199
出願日： 1993年04月21日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】 高分子材料本来の機械的強度や柔軟性、耐熱性などの性能を損なうことなく、恒久的な親水性を持った抗血栓性材料として好適に用いられる高分子材料の表面処理方法を提供する。【構成】 放射線照射または低温プラズマ処理した高分子材料の表面に、2個以上の水酸基を有する構造単位および/または下記一般式(1)【化1】[但し、nは1〜100の整数を表す]で表される構造単位を形成することを特徴とする高分子材料の表面処理方法。

請求項（抜粋）：

放射線照射または低温プラズマ処理した高分子材料の表面に、2個以上の水酸基を有する構造単位および/または下記一般式(1)【化1】[但し、R1は水素原子またはメチル基を表し、nは1〜100の整数を表す]で表される構造単位を形成することを特徴とする高分子材料の表面処理方法。

IPC (4件)：

C08J 7/16 ,  A61L 33/00 ,  C08J 7/00 305 ,  C08J 7/00 306

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特表平4-501882