特許
J-GLOBAL ID:200903049391221396
5-ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-227838
公開番号(公開出願番号):特開2009-057345
出願日: 2007年09月03日
公開日(公表日): 2009年03月19日
要約:
【課題】5-ヒドロキシメチルフルフラール(以下5-HMF)は、各種医薬品、香料、農薬等の合成中間体として知られている。また、各種ポリマーの材料として期待されている。糖類から脱水反応により5-HMFを製造する方法としては、従来から、DMSOなどの非プロトン性の極性溶媒を用いる方法が高生成率で5-HMFを得られる製造方法として知られている。しかし、従来の方法では反応後の溶媒除去が難しいという欠点がある。【解決手段】本発明では、ヘキソースを含む原料を加熱して5-HMFを製造する方法において、溶媒に有機酸を用いることで、反応後の溶媒除去を容易にした。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヘキソースを含む原料を溶媒中で加熱して5-ヒドロキシメチルフルフラールを製造する方法において、
前記溶媒として有機酸を使用することを特徴とする5-ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (3件):
4C037HA21
, 4H039CA42
, 4H039CH20
引用特許: