感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：土橋皓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338410
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147762
出願日： 1998年11月13日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】紫外線等の励起エネルギに対する高い露光感度を有し、現像性、解像性、触媒活性、無電解メッキ性等に優れた感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を提供することを課題とする。【解決手段】パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を構成する。

請求項（抜粋）：

パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物。

IPC (2件)：

G03F 7/029 , G03F 7/032

FI (2件)：

G03F 7/029 , G03F 7/032

Fターム (14件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA19 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BB03 , 2H025BD46 , 2H025EA04 , 2H025FA17 , 2H025FA43

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-127154
配線基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-374048 出願人：住友大阪セメント株式会社
特許第2956179号

全件表示

前のページに戻る