特許

J-GLOBAL ID：200903049393248321

ボイラ補給水処理方法及び装置

発明者： 仲尾 元六
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-336275
公開番号（公開出願番号）：特開2003-136094
出願日： 2001年11月01日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】【課題】 経済的に安価な方法で、しかも新たな腐食問題を引き起こすことなく効果的な防食手段を提供すること。【解決手段】 水平配置の蒸発器や過熱器を構成する伝熱管内壁における水質問題が原因の内面腐食は、下記の補給水を用いることにより防止できる。1)沈降槽、濾過槽、吸着槽等を有する前処理装置14、逆浸透膜法、イオン交換法等を利用した脱イオン装置からなるボイラ用補給水の高純度化装置15において、補給水を前処理した後、150°C以上の温度で加熱処理し、その後冷却して脱イオン化するボイラ補給水。2)補給水を前処理し脱イオン化した後、150°C以上の温度で加熱処理し、その後冷却して脱イオン化するボイラ補給水。3)当該加熱酸化装置17をボイラの火炉内又は排熱回収ボイラの排ガスダクト内に設置するボイラ補給水。4)当該加熱酸化装置17の加熱源として、ボイラから発生させた水蒸気の一部を用いるボイラ補給水。

請求項（抜粋）：

補給水を沈降、濾過及び吸着の操作を含む工程により前処理し、前記前処理した補給水を150°C以上で加熱処理し、この加熱処理した補給水を冷却し、冷却後の補給水を逆浸透膜法又はイオン交換法を含む操作により脱イオン化することを特徴とするボイラ補給水処理方法。

IPC (12件)：

C02F 9/00 504 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/02 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/52 ,  F22D 11/00 ,  C02F 1/00

FI (16件)：

C02F 9/00 504 E ,  C02F 9/00 502 D ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 503 A ,  C02F 9/00 504 B ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/02 B ,  C02F 1/28 A ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/44 D ,  C02F 1/52 Z ,  F22D 11/00 D ,  C02F 1/00 L

Fターム (32件)：

4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KB12 ,  4D006KB13 ,  4D006KB14 ,  4D006KB30 ,  4D006PB02 ,  4D006PC31 ,  4D015BA19 ,  4D015BB01 ,  4D015CA20 ,  4D015FA02 ,  4D015FA15 ,  4D015FA17 ,  4D015FA22 ,  4D015FA29 ,  4D024AA01 ,  4D024BA02 ,  4D024DB03 ,  4D024DB05 ,  4D024DB06 ,  4D024DB19 ,  4D024DB21 ,  4D025AA01 ,  4D025AA07 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025DA03 ,  4D025DA10 ,  4D034AA00 ,  4D034BA08 ,  4D034CA01