特許

J-GLOBAL ID：200903049393484831

2-シクロヘキセノンの製造方法

発明者： 徳川 直久 ,  石川 守
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-008092
公開番号（公開出願番号）：特開平6-211726
出願日： 1993年01月21日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：

【要約】【構成】 シクロヘキセンを分子状酸素含有ガスにより酸化して2-シクロヘキセノンを製造する際、クロム系化合物を触媒とし、かつ炭素数7以上のピリジン類の共存下で酸化を行なうことを特徴とする2-シクロヘキセノンの製造方法。【効果】 高い選択率で2-シクロヘキセノンを得、しかも反応中間体となる2-シクロヘキセンヒドロペルオキシドを蓄積させずに2-シクロヘキセノンを得ることができる。

請求項（抜粋）：

シクロヘキセンを分子状酸素含有ガスにより酸化して2-シクロヘキセノンを製造する際、クロム系化合物を触媒とし、かつ炭素数7以上のピリジン類の共存下で酸化を行なうことを特徴とする2-シクロヘキセノンの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 49/603 ,  B01J 31/12 ,  C07C 45/34 ,  C07B 61/00 300