磁気共鳴イメージング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352019
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153439
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】傾斜磁場コイルによって発生する渦電流や残留磁場の影響を抑制すると共に均一磁場領域の均一性を高めることができるようにする。【解決手段】磁気共鳴イメージング装置において、傾斜磁場コイル28A,28Bの発生する傾斜磁場の影響を遮蔽する平板状の渦電流抑制材29A,29Bを傾斜磁場コイル28A,28Bと磁気プレート25A,25Bとの間に設け、静磁場領域21における静磁場の均一性をより高めるような断面形状をした均一度制御材30A,30Bを渦電流抑制材29A,29Bと磁気プレート25A,25Bとの間に設けた。渦電流抑制材29A,29Bは平板材で構成されているので、傾斜磁場コイル28A,28Bの形状に合わせて切り取るだけなので製作が容易である。また、渦電流抑制材29A,29Bが設けられているので、均一度制御材30A,30Bを設けた場合でも、傾斜磁場コイル28A,28Bによる渦電流や残留磁場による影響が均一度制御材30A,30Bに現れることがない。

請求項（抜粋）：

対向して設けられ、その対向空間内に静磁場を発生させる静磁場発生手段と、前記静磁場領域における静磁場の均一性を高める磁場補正手段と、前記静磁場領域に傾斜磁場を発生させる傾斜磁場発生手段と、前記静磁場発生手段及び磁場補正手段を保持する磁気プレート手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、前記傾斜磁場発生手段の発生する傾斜磁場の影響を遮蔽する平板状の抑制手段を前記傾斜磁場発生手段と前記磁気プレート手段との間に設け、前記静磁場領域における静磁場の均一性をより高めるような断面形状をした均一度制御手段を前記抑制手段と前記磁気プレート手段との間に設けたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。

IPC (4件)：

A61B 5/055 , G01R 33/387 , G01R 33/20 , H01F 6/00 ZAA

FI (5件)：

G01R 33/20 , A61B 5/05 332 , A61B 5/05 362 , G01N 24/06 520 Y , H01F 7/22 ZAA A

Fターム (17件)：

4C096AA01 , 4C096AB32 , 4C096AB48 , 4C096AD08 , 4C096AD09 , 4C096CA02 , 4C096CA05 , 4C096CA07 , 4C096CA16 , 4C096CA18 , 4C096CA25 , 4C096CA38 , 4C096CA58 , 4C096CA62 , 4C096CA70 , 4C096CB16 , 4C096CB20

引用特許：

審査官引用 (6件)

MRI磁石の改良
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-333021 出願人：オックスフォードマグネットテクノロジーリミテッド
特開昭64-064637
特開平4-023411

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