特許

J-GLOBAL ID：200903049429706259

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 内海 義之
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-283966
公開番号（公開出願番号）：特開2008-102276
出願日： 2006年10月18日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し、かつ一般式(c1-1)[式(c1-1)中、Rは水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子またはハロゲン化低級アルキル基であり;Rfはフッ素化アルキル基であり;Y0はアルキレン基である。]で表される構成単位(c1)を有さない基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、前記構成単位(c1)を有する含フッ素樹脂成分(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し、かつ下記一般式(c1-1)で表される構成単位(c1)を有さない基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、前記構成単位(c1)を有する含フッ素樹脂成分(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (14件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17