特許
J-GLOBAL ID：200903049443994321
テクスチャ加工装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195200
公開番号（公開出願番号）：特開平11-028591
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：
【要約】【目的】 ガラス製等のディスク表面にレーザを用いたテクスチャ加工を行う際に、このディスク表面に形成されるバンプ径を所望に調整できるようにする。【構成】 CO2 レーザからなるレーザ光源1からのレーザビームはパルス化されると共にガラス製のディスク2に対してバンプを形成するのに最適なパワーとなるように調整された上で、入射面20aが平面で、出射面20bが円錐面となった第1のコーンレンズ20と、第2のコーンレンズ21は入射面21aが円錐面で、出射面21bが平面となった第2のコーンレンズ21はとからなる輪帯開口ビームエキスパンダ6により所定の外径及び内径に拡大した円環状ビームに変換し、かつ平行光束化させた上で、対物光学系7によりディスク2の所定の位置に照射される。
請求項（抜粋）：
ディスクを回転駆動する間に、レーザビームパルスを半径方向に相対移動させながら照射することにより、このディスク表面に所定の幅にわたってテクスチャ加工を行うために、レーザ光源と、このレーザ光源から前記ディスクの表面にレーザパルスを照射するレーザパルス照射用光学系とを備えたものにおいて、前記レーザパルス照射用光学系は、レーザビームを所定の内径及び外径を有する円環状ビームとした上で、この円環状ビームを平行光束化するための輪帯開口ビームエキスパンダと、この輪帯開口ビームエキスパンダにより平行光束化された円環状ビームを前記ディスクの表面に集光させるための対物光学系とを備える構成としたことを特徴とするテクスチャ加工装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/06 E
, G11B 5/84 A
