特許

J-GLOBAL ID：200903049446317509

水処理装置

発明者： 岸田 麻子 ,  仙波 範明 ,  末岡 靖裕
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-058272
公開番号（公開出願番号）：特開2003-251340
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年09月09日
要約：

【要約】【課題】 光触媒と水との接触面積を大幅に増大させて効率的な有害物質の分解処理が可能であるとともに、電力を他の動力源から供給することなしに、湖沼等に独立して設置可能な水処理装置を提供する。【解決手段】 処理水の水面付近に装置本体を浮かせる浮体と、該浮体下部の水深方向から処理水を汲み上げて循環させる、曝気手段と、該曝気手段により汲み上げられた処理水を、浮体上部の水面付近に散布する、散水手段と、該浮体上面の太陽光が照射される位置に設置される、太陽電池と、を含み、光透過性のある粒状の触媒担体に光触媒を担持させた粒状光触媒を、該浮体上部の水面付近に配置して、曝気手段により汲み上げられた処理水に接触させることを特徴とする水処理装置。

請求項（抜粋）：

処理水の水面付近に装置本体を浮かせる浮体と、該浮体下部の水深方向から処理水を汲み上げて循環させる、曝気手段と、該曝気手段により汲み上げられた処理水を、浮体上部の水面付近に散布する、散水手段と、該浮体上面の太陽光が照射される位置に設置される、太陽電池と、を含み、光透過性のある粒状の触媒担体に光触媒を担持させた粒状光触媒を、該浮体上部の水面付近に配置して、曝気手段により汲み上げられた処理水に接触させることを特徴とする水処理装置。

IPC (4件)：

C02F 1/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 7/00

FI (4件)：

C02F 1/30 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 7/00

Fターム (45件)：

4D029AA01 ,  4D029AB05 ,  4D029BB11 ,  4D037AA05 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA02 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA14A ,  4G069BA38 ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB09A ,  4G069BB15A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BD02A ,  4G069BD03A ,  4G069BD05A ,  4G069BD07A ,  4G069CA05 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EC27