特許
J-GLOBAL ID:200903049453524030

フッ化シランの製造法およびその精製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 坂本 栄一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-161508
公開番号(公開出願番号):特開平8-026715
出願日: 1994年07月13日
公開日(公表日): 1996年01月30日
要約:
【要約】【目的】半導体、電子、光学材料の製造原料として有用なフッ化シランの製造法およびその精製法を提供する。【構成】フッ化水素と塩化シラン(Six Hy Cl2+2x-y(xはx≧1の整数、yは0≦y≦2x+1の整数、ただし(x,y)=(1,2)を除く))とを直接反応させ、かつ、塩化水素を含むそのフッ化シラン(Six Hy F2+2x-y(xはx≧1の整数、yは0≦y≦2x+1の整数、ただし(x,y)=(1,2)を除く))をエーテル中に吹き込み選択的に吸収除去する。
請求項(抜粋):
塩化シラン(SiX Hy Cl2+2x-y(xはx≧1の整数,yは0≦y≦2x+1の整数、ただし(x,y)=(1,2)を除く))とフッ化水素を直接反応させることを特徴とするフッ化シラン(Six Hy F2+2x-y(xはx≧1の整数,yは0≦y≦2x+1の整数、ただし(x,y)=(1,2)を除く))の製造法。

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