特許

J-GLOBAL ID：200903049482197226

ジルコニア薄膜の複合材料及びその製造方法

発明者： 太田 進啓 ,  瀬戸山 誠 ,  朴 辰珠
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 鎌田 文二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-230852
公開番号（公開出願番号）：特開2000-062077
出願日： 1998年08月17日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】 多孔質基材上にYSZ薄膜を効率よく形成させると共に、ピンホールフリーのYSZ薄膜を形成しようとするものである。【解決手段】 四窒化三ケイ素多孔質焼結体上に、イットリア安定化ジルコニア薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

四窒化三ケイ素多孔質焼結体上に、イットリア安定化ジルコニア薄膜を形成してなるジルコニア薄膜の複合材料。

IPC (4件)：

B32B 9/00 ,  C04B 35/48 ,  G01N 27/409 ,  H01M 8/02

FI (4件)：

B32B 9/00 A ,  H01M 8/02 K ,  C04B 35/48 B ,  G01N 27/58 A

Fターム (51件)：

4F100AA12A ,  4F100AA17B ,  4F100AA27B ,  4F100AB16C ,  4F100AB24C ,  4F100AD03C ,  4F100AD05A ,  4F100AR00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DE03A ,  4F100DJ10A ,  4F100EH66B ,  4F100EJ48A ,  4F100GB41 ,  4F100GB61 ,  4F100JD02B ,  4F100JG01C ,  4F100JK01 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4G031AA08 ,  4G031AA12 ,  4G031AA23 ,  4G031AA38 ,  4G031BA07 ,  4G031BA20 ,  4G031CA04 ,  4G031CA08 ,  4G031CA09 ,  4G031GA06 ,  5H026AA06 ,  5H026BB00 ,  5H026BB01 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE13 ,  5H026HH00 ,  5H026HH03 ,  5H026HH04 ,  5H026HH05 ,  5H026HH06 ,  5H026HH09 ,  5H026HH10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-124435
  
• 特開昭62-030683
  
• 特開平2-279575