特許

J-GLOBAL ID：200903049483286770

フォトレジスト剥離剤

発明者： チャールズ カイル ,  タット チョー
出願人/特許権者： ニチゴー・モートン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173475
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005201
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 プリント配線基板、リードフレーム加工、半導体パッケージ等の製造において、レジスト剥離性に優れたフォトレジスト剥離剤を提供すること。【解決手段】 特定の水溶性アミン(a)100重量部に対して、特定のアンモニウム水酸化物(b)5.5〜12.5重量部、特定のアンモニウム水酸化物(c)15〜25重量部及びベンゾトリアゾール類(d)0.5〜4重量部、好ましくは更に水溶性プロピレングリコール類(e)0.1〜10重量部からなるフォトレジスト剥離剤。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で示される水溶性アミン(a)、一般式(2)で示されるアンモニウム水酸化物(b)、一般式(3)で示されるアンモニウム水酸化物(c)及びベンゾトリアゾール類(d)からなることを特徴とするフォトレジスト剥離剤。【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、同一であっても異なっていても良い。n、mは0〜2の整数(但し、nとmの和は少なくとも2である。)で、xは1〜3の整数である。【化2】(式中、R5、R6及びR7は炭素数1〜3のアルキル基であり、同一であっても異なっていても良い。nは0〜2の整数である。)【化3】(式中、R8、R9、R10及びR11は水素又は炭素数1〜4のアルキル基であり、同一であっても異なっていても良い。)

IPC (8件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 ,  C09D201/00 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/60 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 ,  C09D201/00 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/60 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (35件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096LA03 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003EB14 ,  4H003EB19 ,  4H003EB20 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003FA15 ,  4J038CG141 ,  4J038CH031 ,  4J038CH041 ,  4J038CH071 ,  4J038CH081 ,  4J038CH121 ,  4J038CH171 ,  4J038CH201 ,  4J038DB221 ,  4J038FA082 ,  4J038FA182 ,  4J038FA202 ,  4J038JB01 ,  4J038JB09 ,  4J038JB35 ,  4J038KA03 ,  4J038NA10 ,  4J038PA17 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  5F046MA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

• レジスト膜用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-131744   出願人：ローム株式会社, 関東化学株式会社
• レジスト用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-220410   出願人：関東化学株式会社
• ポジ型レジスト用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-083582   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-267448   出願人：東京応化工業株式会社
• リブ形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-227519   出願人：日本合成化学工業株式会社