特許
J-GLOBAL ID：200903049485966840
ホトリソグラフイーのハレーシヨン防止方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 国則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-228888
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047658
出願日： 1991年08月13日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、パターンの表面状態や形状に影響されることなく、反射防止膜で入射光を減衰させてハレーションを防止し、レジスト膜の解像度を向上させて高精度なレジストパターンを形成することを可能にする。【構成】 第1の工程で、基板11上のパターン12を覆う状態に層間膜13を形成する。次いで第2の工程で、層間膜13の上面に反射防止膜14を形成する。続いて第3の工程で、反射防止膜14の上面にレジスト膜15を形成し、その後当該レジスト膜15に感光処理を行う。
請求項（抜粋）：
基板上のパターンを覆う状態に層間膜を成膜する第1の工程と、前記層間膜の上面に反射防止膜を成膜する第2の工程と、前記反射防止膜の上面にレジスト膜を成膜した後、当該レジスト膜に感光処理を行う第3の工程とよりなることを特徴とするホトリソグラフィーのハレーション防止方法。
IPC (2件)：
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