特許
J-GLOBAL ID:200903049493331692

スプレー用噴射遅延装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小栗 昌平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-374565
公開番号(公開出願番号):特開2002-177829
出願日: 2000年12月08日
公開日(公表日): 2002年06月25日
要約:
【要約】【課題】 使用環境の温度変化によるガス圧の変化に係らず安定的かつ正確な遅延時間が得られると同時に崩壊剤を使用しない形式の安全且つ清潔なスプレー用噴射遅延装置を提供する。【解決手段】 スプレー缶に装着される噴射遅延装置であって、噴口12を備えた円筒形のノズル本体1、ノズルステムTに係合するガス貯留室6を備えた下方部分2a、ピストンを収容する環状凹所が穿設された上方部分2bとから成る筒状体2、筒状体の外周面に対して摺動可能に取着されかつその円筒部分が流出孔5を被うと共に前記ノズル本体内面との間で噴口に通じるガス通路13を画成している円筒制御部材11から成る。ガスが、貯留室から案内通路を通って流量制限を行う押下げ部材16を介して容積可変の圧力調整室17に送られ、再度案内通路から透過性の微量調整体15を介して噴射制御空間14に漏出させ、円筒制御部材11を上昇させて流出孔5を開放する。
請求項(抜粋):
スプレー缶のノズルステムに装着されかつ噴射時に前記ステムと共に下方に押し下げて係止され、所定時間経過後に噴射を開始するためのスプレー用噴射遅延装置において、前記遅延装置が、スプレー缶に係止された肩カバーと、噴射時にノズルステムを押し下げると同時に前記肩カバーに係合保持される上端部に噴口を備えた円筒形のノズル本体と、該本体内に一体的に嵌挿固定されると同時に前記ノズルステムに係合する下端部、流出孔が穿設された周壁及び案内通路が開口する上端部により画成されたガス貯留室を備えた下方部分と、上端面に開口を有しかつ前記長手方向軸線に沿って下方に向けて付勢されたピストンを摺動可能に収容するための環状凹所が穿設された上方部分とから成る筒状体と、前記筒状体の外周面に対して長手方向軸線に沿って摺動可能に取着されかつその円筒部分が前記流出孔を被うと共に前記ノズル本体内面との間で前記噴口に通じるガス通路を画成している有底円筒状の円筒制御部材とから構成され、前記案内通路が、前記筒状体の上端面と前記円筒制御部材との間に噴射制御空間を画成するために、前記ピストンの中心部分を長手方向軸線に沿って貫通しており、前記案内通路内において、噴射に先立って前記ガス貯留室内の僅かな量のガスを前記噴射制御空間内に徐々に漏出させて実質的に噴射遅延時間を決定する透過性の微量調整体が設けられており、前記微量調整体と前記ガス貯留室との間の前記案内通路内に該貯留室からのガス流路を制限及び閉止するための押下げ部材が軸方向移動可能に配設されており、筒状体下方部分と前記ピストンとの間に前記押下げ部材により制限された案内通路を通ったガスの圧力を緩衝するための容積可変の圧力調整室が形成可能となっており、前記案内通路から前記噴射制御空間へのガスの漏出が、前記円筒制御部材を上昇させると同時に該制御部材の下端部を上昇させて前記流出孔を開放し、前記ガス貯蔵室内のガスを前記ガス通路を通って噴口から噴出させ、かつ、前記押下げ部材が、前記案内通路を閉止するように成したことを特徴とするスプレー用噴射遅延装置。
IPC (2件):
B05B 9/04 ,  B65D 83/14
FI (2件):
B05B 9/04 ,  B65D 83/14 F
Fターム (10件):
3E014PA01 ,  3E014PB07 ,  3E014PD01 ,  3E014PE14 ,  3E014PE30 ,  3E014PF10 ,  4F033RA02 ,  4F033RA20 ,  4F033RB05 ,  4F033RC03

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