特許

J-GLOBAL ID：200903049494945635

研磨用マスク、研磨方法および研磨装置

発明者： 牛膓 哲雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-354028
公開番号（公開出願番号）：特開2003-158106
出願日： 2001年11月20日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターンの形成、エッチング、レジスト除去、CMPと4工程が必要であった段差を有する被研磨面の平坦化工程を、研磨工程のみで行うことにいより、工程の負荷、コスト負荷の軽減を図る。【解決手段】 段差を有する基体101の被研磨面102上に載置される研磨用マスク11であって、この研磨用マスク11は、被研磨面102上に載置された状態において被研磨面102に形成された段差の凸部103に対応する位置に開口部12が設けられており、この開口部12は傾斜面で構成されているものからなる。この研磨マスク11を用いて凸部103を選択的に研磨し、その後、研磨用マスク11を外して平坦化研磨を行うことで、被研磨面102の平坦化が容易に行えるようになる。

請求項（抜粋）：

段差を有する基体の被研磨面上に載置される研磨用マスクであって、前記研磨用マスクは、前記被研磨面上に載置された状態において前記被研磨面に形成された段差の凸部に対応する位置に開口部が設けられており、前記開口部は傾斜面で構成されていることを特徴とする研磨用マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/04

FI (3件)：

H01L 21/304 622 N ,  H01L 21/304 622 Z ,  B24B 37/04 Z

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058AB09 ,  3C058AC01 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17