特許

J-GLOBAL ID：200903049502051525

スパッタ装置

発明者： 大島 宜浩 ,  柿沼 正康
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-000029
公開番号（公開出願番号）：特開平11-193458
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 ガス流量の調節が容易でその調節に時間のかからないスパッタ装置を提供する。【解決手段】 真空チャンバー内に設けられる複数のガスノズル12を有するガスディストリビューター9内に反応性ガスを供給し、この反応性ガスを該ガスノズル12から噴射させるスパッタ装置であって、ガスディストリビューター9を取り外すためのゲージポートタイプのコネクタ13が該真空チャンバー内に設けられていることを特徴とする。ガスノズル12が、該チャンバーの外向きに設けられている。ガスノズル12は、該反応性ガスを吹き出す穴を有するネジにより形成されている。従って、ガス流量の調節が容易でその調節に時間がかからない。

請求項（抜粋）：

チャンバー内に設けられる複数のガスノズルを有するパイプ内に反応性ガスを供給し、この反応性ガスを該ガスノズルから噴射させるスパッタ装置であって、該パイプを取り外すための接続部が該チャンバー内に設けられていることを特徴とするスパッタ装置。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/203

FI (3件)：

C23C 14/34 M ,  C23C 14/56 E ,  H01L 21/203 S