特許

J-GLOBAL ID：200903049511340777

光素子の製造方法

発明者： 板谷 太郎 ,  松本 和彦 ,  石井 正巳 ,  中川 格 ,  杉山 佳延
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院電子技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008082
公開番号（公開出願番号）：特開平8-204225
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】 受光または発光を司る光電変換機能部の一表面上に所定幅の光学窓を形成し、その両側には光非透過導電性薄膜を形成する必要のある光素子を製造するに際し、光学窓の領域的な確定と同時に光学窓を保護する保護絶縁構造体を形成することにより、工程を簡略化する。【構成】 光電変換機能部11の一表面上に形成された光非透過導電性薄膜12の一部の領域を変成して所定の幅Wと長さを有する光学窓保護絶縁構造体15を形成する。これにより、当該光学窓保護絶縁構造体15の下の光電変換機能部11の表面には領域の確定された光学窓13が形成される。

請求項（抜粋）：

発光または受光を司る光電変換機能部の一表面上に光非透過導電性薄膜を形成する工程と;該光非透過導電性薄膜の一部の領域を変成することにより、所定の幅と長さを有する光透過性の光学窓保護絶縁構造体を形成すると同時に、該形成される光学窓保護絶縁構造体の下の上記光電変換機能部の表面における光学窓の領域確定も行なう工程と;を含んで成る光素子の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 31/108 ,  H01L 31/02 ,  H01L 33/00

FI (2件)：

H01L 31/10 C ,  H01L 31/02 A