特許
J-GLOBAL ID：200903049561038893
セラミック薄膜の密着性評価試験法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 雅生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139301
公開番号（公開出願番号）：特開平6-331536
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 金属母材表面に成膜したセラミック薄膜の密着性を簡便に評価する試験方法を提供する。【構成】 金属母材の表面にセラミック薄膜を成膜した試験片の長手方向中央部において短辺と平行にナイフエッジ状の衝撃を付与し、前記試験片が2〜8度に曲がるように前記セラミック薄膜にクラックを発生させ、該クラックの発生範囲を測定することによってセラミック薄膜の密着性を評価する。【効果】 衝撃によるセラミック薄膜の密着性評価が可能となり、従来法である引っかき試験法に比較し、簡便でかつ、精度のよい測定値が得られるので、セラミック薄膜の良否判定が評価できる優れた方法である。
請求項（抜粋）：
金属母材の表面にセラミック薄膜を成膜した試験片の長手方向中央部において短辺と平行にナイフエッジ状の衝撃を付与し、前記試験片を所定角度に曲げて前記セラミック薄膜にクラックを発生させ、該クラックの発生範囲を測定することによってセラミック薄膜の密着性を評価することを特徴とするセラミック薄膜の密着性評価試験法。
IPC (3件)：
G01N 19/04
, G01N 3/00
, G01N 3/30
