特許
J-GLOBAL ID:200903049562302659

全低圧精留方式による高純度液化窒素製造方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-055785
公開番号(公開出願番号):特開平6-273035
出願日: 1993年03月16日
公開日(公表日): 1994年09月30日
要約:
【要約】【目的】 低いコストで低沸点不純物濃度を1ppb以下とすることのできる簡易な高純度液化窒素製造方法及び装置を提供する。【構成】 従来の全低圧精留方式による液化窒素製造方法の工程に、液化点近傍まで冷却した低温窒素流体を窒素液化器21内の液化窒素と熱交換器23で熱交換させた後簡易精留装置24中間部に導入する工程と、前記簡易精留装置を上昇するガスと窒素液化器上部のコンデンス・リボイラ20からの流下流体とを気液接触させる工程と、濃縮された低沸点成分26をコンデンス・リボイラ20頂部より排気する工程を付加する。
請求項(抜粋):
原料空気を圧縮冷却して低圧低温精留塔に導入し、高沸点不純物を含まない低圧窒素ガスを精留塔から導出して低温吸入圧縮し外部寒冷等にて液化点近傍まで冷却した後、前記精留塔下方に位置する窒素液化器に導入する工程と、前記精留塔底部に位置し精留塔底部に生成される流体を低温源とするコンデンス・リボイラにて前記窒素液化器中を上昇するガスを冷却し凝縮させる工程を含む全低圧精留方式による高純度窒素製造方法において、前記液化点近傍まで冷却した低温窒素流体を前記窒素液化器の液化窒素と熱交換させた後、簡易精留装置中間部に導入する工程と、前記簡易精留装置を上昇するガスと前記コンデンス・リボイラからの流下流体とを気液接触させ、濃縮された低沸点成分をコンデンス・リボイラ頂部より排気する工程とを含むことを特徴とする高純度液化窒素製造方法。
IPC (2件):
F25J 3/04 ,  F25J 3/02

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