特許

J-GLOBAL ID：200903049572100256

成膜方法および成膜装置

発明者： 北橋 正光
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 木村 高久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265093
公開番号（公開出願番号）：特開2000-096245
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】成膜速度を飛躍的に向上させるとともに、膜の用途に応じて結晶粒径の大きさを一定の粒径に揃える。【解決手段】ノズル10を用いて、膜の原料となる所定粒径dの固形膜原料50が、原料ガス7とともに基板5上に導かれる。つぎに基板5上で、固形膜原料50の相互間が、原料ガス7の励起により形成された結晶粒7′によって結合されることによって膜6が基板5上に積層されていく。

請求項（抜粋）：

ノズルを用いて原料ガスを基板上に導くとともに前記原料ガスを励起することによって、原料の結晶粒を前記基板上に積層して、膜を前記基板上に成膜するようにした成膜方法において、ノズルを用いて、膜の原料となる所定粒径の固形膜原料を、前記原料ガスとともに前記基板上に導く工程と、前記基板上で、前記固形膜原料の相互間を、前記原料ガスの励起により形成された結晶粒で結合して膜を前記基板上に積層する工程とを具えた成膜方法。

IPC (4件)：

C23C 16/50 ,  B05D 1/02 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 16/50 Z ,  B05D 1/02 Z ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/31 D

Fターム (42件)：

4D075AA06 ,  4D075AA76 ,  4D075BB49Y ,  4D075BB57Y ,  4D075DA06 ,  4D075DB11 ,  4D075DC22 ,  4D075EA02 ,  4D075EB01 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030AA24 ,  4K030BA28 ,  4K030BA29 ,  4K030BA39 ,  4K030BA61 ,  4K030BB03 ,  4K030EA01 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB07 ,  5F045AC09 ,  5F045BB09 ,  5F045BB12 ,  5F045DA61 ,  5F045EE07 ,  5F045EF02 ,  5F045EF08 ,  5F045EF11 ,  5F045EH04 ,  5F045EH10 ,  5F103AA10 ,  5F103BB06 ,  5F103BB09 ,  5F103DD16 ,  5F103DD30 ,  5F103NN02 ,  5F103RR01