特許
J-GLOBAL ID：200903049590579690
オゾン発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-224151
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059214
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】Cr化合物発生の要因となるオゾンガスに含まれるNOx、HF、SOxを除去し、Cr化合物に汚染されないか、或いは高集積度の半導体製造等に問題にならない程度の微量な汚染で済むオゾン発生装置を提供すること。【構成】 高電圧を印加しているオゾン発生セル11に原料ガスを供給し、該オゾン発生セル11で発生したオゾンガスをオゾンガス移送流路(管14,15)を通して送出するオゾン発生装置10において、オゾンガス移送流路にNOx、HF、SOxのいずれか1つ又は2つ以上を除去する除去手段(図ではNOxの除去手段)を設け、オゾン発生セル11からのオゾンガスを除去手段を通して、該オゾンガスに含まれるNOx、HF、SOxのいずれか1つ又は2つ以上を除去して送出する。
請求項（抜粋）：
高電圧を印加しているオゾン発生セルに原料ガスを供給し、該オゾン発生セルで発生したオゾンガスをオゾンガス移送流路を通して送出するオゾン発生装置において、前記オゾンガス移送流路にNOx、HF、SOxのいずれか1つ又は2つ以上を除去する除去手段を設け、前記オゾン発生セルからのオゾンガスを該除去手段を通して、該オゾンガスに含まれるNOx、HF、SOxのいずれか1つ又は2つ以上を除去して送出することを特徴とするオゾン発生装置。
IPC (4件)：
C01B 13/11
, B01D 53/04
, B01D 53/14
, H01T 23/00
