流体の処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩谷龍
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-003006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-190926
出願日： 2000年01月11日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】高周波パルスプラズマを用いる、有害物質を含む化学物質流体の処理方法において、プラズマ発生効率を向上させること、および有害物質の無害化あるいは有用物質への転換、合成を効率よく行うこと。【解決手段】 100V〜50kVのパルス電圧を印加して、周波数1kPPS(1kHz)〜500kPPS(500kHz)での高周波プラズマ放電を行わせるプラズマ化処理によって、化学物質流体の化学反応(分解または/および合成反応)を促進させる。

請求項（抜粋）：

化学物質流体に対しパルス電圧を印加してパルス放電を行わせることにより化学物質をプラズマ化して化学物質の反応を行う流体処理方法において、前記パルス電圧の絶対値が約100Vから約50kVの範囲内であり、かつパルス放電の周波数が約1kPPS (1kHz)から約500kPPS(500kHz)の範囲内であることを特徴とする流体処理方法。

IPC (9件)：

B01D 53/32 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/72 , B01J 19/08 , C01B 3/24 , C01B 3/34 , C07C 2/80 , C07C 11/04 , C07C 11/24

FI (9件)：

B01D 53/32 , B01J 19/08 E , C01B 3/24 , C01B 3/34 , C07C 2/80 , C07C 11/04 , C07C 11/24 , B01D 53/34 ZAB Z , B01D 53/34 120 D

Fターム (36件)：

4D002AA34 , 4D002AB03 , 4D002BA05 , 4D002BA06 , 4D002BA07 , 4D002BA15 , 4D002CA20 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB20 , 4D002HA03 , 4G040DA03 , 4G040DB04 , 4G040EA03 , 4G040EA05 , 4G040EB11 , 4G040EB41 , 4G075AA02 , 4G075AA03 , 4G075AA05 , 4G075AA37 , 4G075BA01 , 4G075BA05 , 4G075CA15 , 4G075CA47 , 4G075DA03 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4H006AA02 , 4H006AC21 , 4H006AC29 , 4H006BA91 , 4H006BE41

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