特許
J-GLOBAL ID:200903049628449460

プレーナ導波路の作製用エーロゾルプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-282317
公開番号(公開出願番号):特開平8-225957
出願日: 1995年10月31日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【課題】 本発明はプレーナ導波路の作製用エーロゾルプロセスを提供する。【解決手段】 基板上へのガラス薄膜の作製は、ガラス用のすべてのプリカーサを含む溶液の液滴を含むエーロゾルのフレーム反応を含む。すべての酸化物成分用プリカーサを含む溶液を噴霧し、得られた液滴はフレーム中で反応し、球状のガラス粒を形成し、それらは加熱された基板上に堆積する。フレームを通して基板を移動させることにより、均一な堆積が実現される。続く炉中での熱処理により、多孔質粒子層が澄んだガラスにシンタされる。この方法はシリコン基板上へのナトリウム・ホウケイ酸ガラスの形成及び能動デバイス用希土類ドープ多成分ガラス薄膜の形成に用い、成功した。
請求項(抜粋):
基板を準備する工程、形成すべきガラス中のすべての元素を含む溶液の液滴を含むエーロゾルを形成する工程;前記のガラスの粒子を形成するため、フレームを通すことによって、前記液滴を反応させる工程;粒子層を形成するため、前記基板上に、前記粒子を堆積させる工程;連続層を形成するため、前記粒子層をシンタする工程及び導波路デバイスを完成させる工程を含むプレーナ光導波路デバイスの作製方法。
IPC (7件):
C23C 26/00 ,  C01B 21/48 ,  C03B 19/01 ,  C03B 19/12 ,  C30B 29/06 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (7件):
C23C 26/00 A ,  C01B 21/48 ,  C03B 19/01 ,  C03B 19/12 ,  C30B 29/06 Z ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-300218
  • 特開平4-147202

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