特許

J-GLOBAL ID：200903049630644172

共役二重結合鎖を有するスルホン化ジアリールエテン系化合物

発明者： 椛澤 誠 ,  石川 篤 ,  藤野 泰光 ,  堀川 幸雄 ,  入江 正浩
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-208927
公開番号（公開出願番号）：特開平7-048366
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表す。Aは一般式(2)【化2】を表し、mは1〜2の整数、R1 、R2 はアルキル基、R3 〜R7 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。Bは一般式(3)【化3】を表し、R8 はアルキル基、R9 〜R10は水素原子、アルキル基又はアルコキシフェニル基を表す。【効果】 熱安定性、耐湿性、感度に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性の良好なフォトクロミック性を有する、性能の優れた可逆的光記録材料などを得ることができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)にて示される共役二重結合鎖を有するスルホン化ジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表す。Aは一般式(2)【化2】を表し、mは1〜2の整数を表し、R1 、R2 はアルキル基、R3 〜R7 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。Bは一般式(3)【化3】を表し、R8 はアルキル基、R9 〜R12は水素原子、アルキル基又はアルコキシフェニル基を表す。)

IPC (2件)：

C07D333/54 ,  C09K 9/02