感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及び永久パターン

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-056761
公開番号（公開出願番号）：特開2007-233184
出願日： 2006年03月02日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：

【課題】ヘイズ値が低く、高感度で、表面のタック性が少なく、フィルム化した際の保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物及びこの感光性組成物を用いた感光性フィルム、並びに半導体分野における高精細な永久パターンを高精細に、且つ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及び永久パターンを提供。【解決手段】側鎖にベンジル基を有する繰り返し単位と、側鎖に酸性基を有する繰り返し単位と、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位とを含有する樹脂(A)、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤として融点が80°C以上であり、且つメチルエチルケトン(MEK)への溶解度が10質量%以上である化合物(B)を少なくとも含んでなる感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

側鎖にベンジル基を有する繰り返し単位と、側鎖に酸性基を有する繰り返し単位と、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位とを含有する樹脂(A)、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を少なくとも含んでなる感光性組成物であり、前記熱架橋剤として、融点が80°C以上であり、且つ25°Cにおけるメチルエチルケトン(MEK)への溶解度が10質量%以上である化合物(B)を用いることを特徴とする感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/027 , G03F 7/033 , H05K 3/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/004 501 , G03F7/004 512 , G03F7/027 515 , G03F7/033 , H05K3/00 F , H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA13 , 2H025AA15 , 2H025AA16 , 2H025AA17 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025BC53 , 2H025BC74 , 2H025BC85 , 2H025BC86 , 2H025BD03 , 2H025CA00 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB30 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 2H025DA01 , 2H025EA08 , 2H025FA03 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭61-243869号公報
グループ作業制御装置,グループ作業制御システム,グループ作業制御方法,グループ作業制御プログラムおよびグループ作業制御プログラムを記録した記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-237078 出願人：シャープ株式会社

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