特許

J-GLOBAL ID：200903049643137954

浄水製造方法及びその装置

発明者： 吉川 慎一 ,  大熊 那夫紀 ,  奥野 裕 ,  北沢 照啓
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-051579
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226361
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 酸化剤を用いて原水中の溶解性金属を固形化した後に有機材料にて製作した膜によって膜ろ過を行っても、膜に酸化劣化が生じることなく、したがって膜の寿命が長く、また溶解性金属の膜表面での析出が生じることなくしたがって運転動力の小さい浄水システムを提供すること。【解決手段】 原水中に酸化剤を添加し、原水中の溶解性金属を固形化した後に精密ろ過膜,限外ろ過膜などのろ過膜にて除去を行う膜型浄化システムにおいて、酸化剤を添加して溶解性金属を固形化した後に還元剤を添加し、原水中に残留した酸化剤を除去することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

原水中に酸化剤を添加し、原水中の溶解性金属を酸化析出させて固形化した後に精密ろ過膜,限外ろ過膜などのろ過膜にて除去を行う浄水製造方法において、前記酸化剤を添加して溶解性金属を固形化した後に還元剤を添加し、原水中に残留した酸化剤を除去することを特徴とする浄水製造方法

IPC (5件)：

B01D 61/16 ,  B01D 65/08 ,  C02F 1/64 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72

FI (5件)：

B01D 61/16 ,  B01D 65/08 ,  C02F 1/64 Z ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/72 Z