特許
J-GLOBAL ID：200903049684855713
半導体製造工場
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-197642
公開番号（公開出願番号）：特開2001-020549
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】【課題】 付属スペース(天井裏スペース、床下スペース)を最小にし、施設全体としてのスペース効率のよいクリーンルームを提供することにある。【解決手段】 クリンルームと、このクリンルームの天井側に設けられ該クリンルームに空気を供給する天井裏スペースと、前記クリンルームへ供給される空気から塵埃を除去するとともに空気をクリンルームへ圧送するファン付き高性能フィルタと、前記クリンルームの床の下方に位置する床下スペースと、この床下スペース内に流入する空気を前記天井裏スペースへ戻すレタンスペースとを有し、前記クリンルームの適所に、前記天井裏スペースと床下スペースとを連通する取付・取外簡易なレタンシャフトを設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
クリンルームと、このクリンルームの天井側に設けられ該クリンルームに空気を供給する天井裏スペースと、前記クリンルームへ供給される空気から塵埃を除去するとともに空気をクリンルームへ圧送するファン付き高性能フィルタと、前記クリンルームの床の下方に位置する床下スペースと、この床下スペース内に流入する空気を前記天井裏スペースへ戻すレタンスペースとを有し、前記クリンルームの適所に、前記天井裏スペースと床下スペースとを連通する取付・取外簡易なレタンシャフトを設けたことを特徴とする半導体製造工場。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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