特許
J-GLOBAL ID：200903049691877323
フォトマスクの欠損欠陥修正方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-300003
公開番号（公開出願番号）：特開平8-160600
出願日： 1994年12月02日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクの欠損欠陥修正後に薬液等で洗浄しても剥離することない薄膜を欠損欠陥部分を完全に覆うように堆積させる。【構成】 クロム化合物ガス雰囲気中に配置されたフォトマスク10の欠損欠陥部分22に紫外レーザ光を照射することによって、その欠損欠陥部分22を完全に覆うように第1の薄膜25を堆積させる第1の工程と、前記第1の薄膜25を含む領域に可視レーザ光を照射することによって、前記第1の薄膜25を完全に覆うように第2の薄膜28を堆積させる第2の工程とを行う。
請求項（抜粋）：
CVD原料ガス雰囲気中に配置されたフォトマスクの欠損欠陥部分に紫外レーザ光を照射することによって、その欠損欠陥部分を完全に覆うように第1の薄膜を堆積させる第1の工程と、前記第1の薄膜を含む領域に可視レーザ光を照射することによって、前記第1の薄膜を完全に覆うように第2の薄膜を堆積させる第2の工程とを含むことを特徴とするフォトマスクの欠損欠陥修正方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, B23K 26/06
, B23K 26/12
, H01L 21/027
