特許

J-GLOBAL ID：200903049698245241

マイクロ構造体、及びその作製方法

発明者： 香取 篤史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-313254
公開番号（公開出願番号）：特開2002-120230
出願日： 2000年10月13日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：

【要約】【課題】レンズなどのマイクロ構造体を柔軟な態様で同一基板上に作成することである。【解決手段】マイクロ構造体は、基板1に滴3を付着させて微細突起4を形成し、微細突起4と基板1を少なくとも部分的に覆う膜5を形成して作製する。

請求項（抜粋）：

マイクロ構造体の作製方法であって、(1)基板に滴を付着させて微細突起を形成する工程と、(2)該微細突起と基板を少なくとも部分的に覆う膜を形成する工程を有することを特徴とするマイクロ構造体の作製方法。

IPC (7件)：

B29C 33/38 ,  C23C 18/31 ,  C25D 1/00 321 ,  C25D 1/10 ,  C25D 13/12 ,  G02B 3/00 ,  B29L 11:00

FI (7件)：

B29C 33/38 ,  C23C 18/31 A ,  C25D 1/00 321 ,  C25D 1/10 ,  C25D 13/12 A ,  G02B 3/00 A ,  B29L 11:00

Fターム (14件)：

4F202AA42 ,  4F202AH75 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD03 ,  4F202CD12 ,  4F202CK11 ,  4K022AA50 ,  4K022BA14 ,  4K022BA31 ,  4K022CA06 ,  4K022CA18 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01