特許

J-GLOBAL ID：200903049699070810

研磨液組成物

発明者： 山下 毅 ,  神崎 明彦 ,  相澤 龍司 ,  倉本 成史 ,  山口 繁
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-344825
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116563
出願日： 2003年10月02日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【課題】 高い研磨速度と高いエッチング抑制効果を両立して発現でき、均一で安定的な効果が得られ、従来汎用の研磨装置を用いることも可能である、CMP用の研磨液組成物を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる研磨液組成物は、ポリアルキレンイミンに1種類以上の不飽和カルボン酸および/またはその塩が付加した水溶性アミノカルボン酸ポリマーと水とを必須に含む。また、本発明にかかる別の研磨液組成物は、ビニルアミンおよびアリルアミンから選ばれる少なくとも1種を含むモノマー成分を重合して得られるポリアミンに1種類以上の不飽和カルボン酸および/またはその塩が付加した水溶性アミノカルボン酸ポリマーと水とを必須に含む。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ポリアルキレンイミンに1種類以上の不飽和カルボン酸および/またはその塩が付加した水溶性アミノカルボン酸ポリマーと水とを必須に含む研磨液組成物。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

FI (5件)：

H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622C ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550C ,  C09K3/14 550Z

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA13 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属用研磨布及びそれを用いた研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-323996   出願人：日立化成工業株式会社