特許

J-GLOBAL ID：200903049700855320

研磨装置

発明者： 上野 久史
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211838
公開番号（公開出願番号）：特開平9-057612
出願日： 1995年08月21日
公開日（公表日）： 1997年03月04日
要約：

【要約】【課題】 研磨液(9)が被研磨材料(1)の研磨面にむらなく均一に拡がり、少ない研磨液量で安定した研磨を行うことができ、研磨コストの引き下げと、研磨製品の高品質化による製品利用効率の向上に貢献する研磨装置を提供する。【解決手段】 研磨液供給ノズル(8)がリテーナーリング(3)に設けられることにより、装置が簡素化され、かつ研磨液がこのノズル研磨布上で被研磨材料の近くに供給される。あるいはノズルの形状を内側に湾曲させる構造とすることにより研磨布と被研磨材料との接触面に向けて供給される構造とする。あるいは、さらに、ノズル内壁の材料を研磨液のアルカリ性に耐えるものとし、ノズルの個数も被研磨材料の大きさ等に応じて選定する。

請求項（抜粋）：

回転研磨テーブル上に貼付された研磨布上に研磨液を供給し、被研磨材料保持リング内側に保持された被研磨材料を前記研磨布に圧接して該被研磨材料を平面研磨する研磨装置において、研磨液供給ノズルが前記被研磨材料保持リングに設けられ、前記研磨液が前記研磨液供給ノズルから前記研磨布上に供給されることを特徴とする研磨装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 ,  B24B 57/02 ,  H01L 21/304 321

FI (3件)：

B24B 37/04 C ,  B24B 57/02 ,  H01L 21/304 321 E