特許

J-GLOBAL ID：200903049703770783

チタノシリケートの製造方法及びチタノシリケート

発明者： 山本 勝俊 ,  村松 淳司
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学
代理人 (4件)： 重信 和男 ,  清水 英雄 ,  高木 祐一 ,  中野 佳直
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-073653
公開番号（公開出願番号）：特開2007-145687
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：

【課題】従来の技術では、高価な原材料を使用しなければならないという問題と、同時に、加水分解速度のコントロールが難しく、チタンの分散度が高いチタノシリケートが再現性良く得られないという問題があった。本発明は、安価な原材料から、チタンの分散性の高いチタノシリケートを、再現性良く製造する方法を提供することを目的としている。【解決手段】本発明によれば、シリカ粉末とチタニア粉末を粉砕、混合することによりメカノケミカル反応で得られたシリカ-チタニア複合粉を原材料として用いることを特徴とするチタノシリケートの製造方法が得られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリカ粉末とチタニア粉末を粉砕、混合することによりメカノケミカル反応で得られたシリカ-チタニア複合粉を原材料として用いることを特徴とするチタノシリケートの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/20

FI (1件)：

C01B33/20

Fターム (17件)：

4G073BA20 ,  4G073BA24 ,  4G073BA36 ,  4G073BA63 ,  4G073BA84 ,  4G073BD11 ,  4G073CD01 ,  4G073CZ49 ,  4G073CZ50 ,  4G073FB11 ,  4G073FB50 ,  4G073FD01 ,  4G073FF04 ,  4G073GA03 ,  4G073GA19 ,  4G073GB03 ,  4G073UA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭56-96720号公報
  
• 結晶性チタノシリケートゼオライトおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-363875   出願人：東ソー株式会社