特許
J-GLOBAL ID：200903049718923071
光学マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-176958
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036174
出願日： 1993年07月16日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、従来の位相シフトマスクや斜入射照明と同等もしくはより以上に解像度の高い光投影露光を実現することを目的とする【構成】 露光光を遮光する遮光部と、露光光を透過させる開口部が形成された光学マスクにおいて、光学マスク全面に、導電性遮光材料で形成され、露光光の波長程度以下のピッチを有するストライプが設けられている。露光光を遮光する遮光部と、露光光を透過させる開口部が形成された光学マスクにおいて、前記開口部に、導電性遮光材料で形成され、露光光の波長程度以下のピッチを有するストライプが設けられている。
請求項（抜粋）：
露光光を遮光する遮光部と、露光光を透過させる開口部が形成された光学マスクにおいて、光学マスク全面に導電性遮光材料で形成され、露光光の波長程度以下のピッチを有するストライプが設けられている光学マスク。
IPC (2件)：
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