特許
J-GLOBAL ID：200903049721453248
TFT製造用スパッタリングタ-ゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
今井 毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079056
公開番号（公開出願番号）：特開平6-264233
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：
【要約】【目的】 機械的強度や耐熱応力性に優れていて取り扱いが良好な上に、スパッタリング時のパ-ティクル発生が少なく、かつ膜厚や膜特性の均一な薄膜を安定して形成することができるTFT製造用のモリブデン又はモリブデン合金製スパッタリングタ-ゲットを提供する。【構成】 TFT製造用スパッタリングタ-ゲットを、合計のガス成分含有量が100ppm 以下である“溶製したモリブデン又はモリブデン合金の塑性加工材”にて構成するか、或いは更に結晶粒径(平均結晶粒径)が1mm以下に調整されて成る如き構成とする。
請求項（抜粋）：
合計のガス成分含有量が100ppm 以下であるところの、溶製したモリブデン又はモリブデン合金の塑性加工材から成ることを特徴とするTFT製造用スパッタリングタ-ゲット。
IPC (4件)：
C23C 14/34
, H01L 21/285
, H01L 29/784
, C22C 27/04 102
