特許

J-GLOBAL ID：200903049730646741

ポリッシング装置

発明者： 檜山 浩國 ,  和田 雄高 ,  廣川 一人 ,  松尾 尚典
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099991
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277406
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 研磨パッドと被研磨基板の被研磨面に発生する摩擦力により被研磨基板に作用する回転モーメントを打ち消し、被研磨基板の被研磨面の面圧を均一に保持することができるポリッシング装置を提供すること。【解決手段】 定盤に貼付けた研磨パッド12に、トップリングに保持された被研磨基板を押し付け、研磨パッド12と被研磨基板の相対運動により被研磨基板の被研磨面を研磨するように構成したポリッシング装置において、被研磨基板に加わる摩擦力を測定する摩擦力センサFX、FYを設けると共に、トップリングの周囲部の複数点に直接又は間接的に圧力を加えるアクチュエータAX1、AX2、AY1、AY2を設け、摩擦力センサFX、FYの出力fx、fyにより、トップリングの外周部の複数点に直接又は間接的に加えられる圧力を調整して、摩擦力により被研磨基板を介してトップリングに加わる回転モーメントを打ち消す演算制御装置22を設けた。

請求項（抜粋）：

定盤に貼付けた研磨パッドに、トップリングに保持された被研磨基板を押し付け、該研磨パッドと被研磨基板の相対運動により該被研磨基板の被研磨面を研磨するように構成したポリッシング装置において、前記被研磨基板に加わる該被研磨基板と前記研磨パッドの間の摩擦力を測定する摩擦力センサを設けると共に、トップリング上部の複数点に直接又は間接的に圧力を加える加圧手段を設け、前記摩擦力センサの出力により、前記トップリング外周部の複数点に加えられる圧力を調整する圧力制御手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。