特許

J-GLOBAL ID：200903049732977150

18-F製造ターゲット部材及びターゲットシステム

発明者： 江頭 智典
出願人/特許権者： 日本メジフィジックス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-231938
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054196
出願日： 1995年08月17日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】18Oターゲット水のターゲット室における滞留及びキャビテーションを実質的に無くし、かつ陽子ビームの照射エネルギーに由来する発熱を効率的に取り去り、18Oターゲット水の沸騰、泡の発生を抑えた、大電流陽子ビームも適用可能な18F製造ターゲット部材及びターゲットシステムを提供する。【解決手段】18Oターゲット水流入口及び流出口を有し、かつ18Oターゲット水流入口及び流出口が、ターゲット室内で実質的に滞留、キャビテーションを生じさせない形状が施されたターゲット室、及びターゲット室背面に施されたターゲット室を冷却する冷却水循環路からなる18F製造ターゲット部材及びターゲットシステム。

請求項（抜粋）：

18Oターゲット水流入口及び流出口を有し、かつ18Oターゲット水流入口及び流出口がターゲット室内で実質的に滞留及びキャビテーションを生じさせない形状が施されたターゲット室、及びターゲット室背面に施されたターゲット室を冷却する冷却水循環路からなる18F製造ターゲット部材。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-246699
  
• 特開昭60-003600
  
• 特開昭50-035598
  
• 特開昭52-074798